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旋轉(zhuǎn)流變儀的四種溫度控制單元介紹

發(fā)布時(shí)間:2023-02-09
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首先是廣受歡迎的半導(dǎo)體(Peltier)溫控單元。它是利用了半導(dǎo)體的一種特殊效應(yīng),通過(guò)本身溫度的升高或降低就能對(duì)平行板、錐板或同心圓筒的樣品控溫,原理簡(jiǎn)單,控制方便,已成為研究精細(xì)化工、食品、化妝品、涂料、油墨等流變性能的*選溫控系統(tǒng)。Peltier半導(dǎo)體溫控方式的溫度上限可以到200°C,基本滿足了上述領(lǐng)域?qū)Ω邷販y(cè)試范圍的需要。其溫度的下限極限可以到達(dá)-60°C,也能滿足很多低溫測(cè)試的要求了。而且它最大的優(yōu)點(diǎn)是升降溫速度超快,最快可以實(shí)現(xiàn)60°C/分鐘的變溫速度,溫控的精度也能達(dá)到0.1~0.2°C。不過(guò)半導(dǎo)體溫控系統(tǒng)一定要接一個(gè)循環(huán)裝置,不管是水冷還是風(fēng)冷,用于保護(hù)溫控系統(tǒng)不要過(guò)熱燒毀。另外要實(shí)現(xiàn)零度以下的溫度測(cè)試,外接循環(huán)裝置也要具有降溫能力。

 

第二種溫控方式就是電加熱溫控系統(tǒng)。說(shuō)簡(jiǎn)單些,就是電熱毯的加熱方式,可以實(shí)現(xiàn)平行板、錐板或同心圓筒的控溫。與第一種Peltier方式相比,電加熱方式的溫度上限可以提高到400°C(平行板、錐板)或者是300°C(同心圓筒),滿足相關(guān)高分子熔體和其它高溫測(cè)試的需要。由于加熱體本身的熱慣量較大,所以一旦到達(dá)設(shè)定溫度后,溫度波動(dòng)小。特別是平行板、錐板測(cè)試樣品時(shí),不會(huì)出現(xiàn)在裝樣過(guò)程中溫度大幅波動(dòng)的問(wèn)題。但同時(shí)帶來(lái)的不足就是電加熱系統(tǒng)升溫速度慢,視溫度范圍的不同,升溫速度在3~5°C/分鐘不等。好在可以在電加熱溫控系統(tǒng)中接入一套液體控溫的循環(huán)器,加速降溫,同時(shí)還能實(shí)現(xiàn)一些低于室溫的實(shí)驗(yàn)。

 

第三種溫控方式是直接接入液體控溫循環(huán)器的方法,俗稱水浴控溫。當(dāng)然循環(huán)液既可以是水,也可以是溫度范圍更寬的硅油或水/乙二醇的混合液。這種控溫系統(tǒng)的溫度范圍就依賴與所接循環(huán)器的能力了,有溫度范圍窄的,也有從-40°C ~ 150 °C的,不一而足。

 

最后一種溫控方式是輻射對(duì)流爐。從名字上看就是相對(duì)較新的溫控方式,你猜的沒(méi)錯(cuò),溫控范圍從-150°C 到 600°C,是溫控范圍最寬的方式。簡(jiǎn)單說(shuō)就是電吹風(fēng)+電熱毯雙系統(tǒng),配合液氮低溫系統(tǒng),是無(wú)*的方式,也是最昂貴的溫控方式。適用于平行板、錐板、固體扭轉(zhuǎn)(DMA功能)、熔體拉伸、紫外固化等等,也是聚合物流變學(xué)通常選的方式。